Hafnium tetrachloride | HfCl4 تالقىنى | CAS 13499-05-3 | زاۋۇت باھاسى

قىسقىچە چۈشەندۈرۈش:

Hafnium tetrachloride خافنىي ئوكسىدنىڭ باشلامچىسى ، ئورگانىك بىرىكتۈرۈش ، يادرو قوللىنىش ۋە نېپىز پەردە چۆكۈشنىڭ كاتالىزاتورى سۈپىتىدە مۇھىم قوللىنىشچان پروگراممىلارغا ئىگە بولۇپ ، ئۇنىڭ ھەرخىل تېخنىكا ساھەلىرىدىكى كۆپ خىللىقى ۋە مۇھىملىقىنى گەۋدىلەندۈرىدۇ.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

بىزگە ئېلخەت ئەۋەتىڭ

مەھسۇلات تەپسىلاتى

مەھسۇلات خەتكۈچلىرى

مەھسۇلات چۈشەندۈرۈشى

قىسقىچە تونۇشتۇرۇش

مەھسۇلات ئىسمى: Hafnium tetrachloride
CAS نومۇرى: 13499-05-3
بىرىكمە فورمۇلا: HfCl4
مولېكۇلا ئېغىرلىقى: 320.3
تاشقى كۆرۈنۈشى: ئاق پاراشوك

Specification

Item	Specification
كۆرۈنۈش	ئاق پاراشوك
HfCl4 + ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

ئىلتىماس

Hafnium Dioxide Precursor: Hafnium tetrachloride ئاساسلىقى دىففېكسىيىلىك خۇسۇسىيەتكە ئىگە ماتېرىيال بولغان Hfnium تۆت ئوكسىد (HfO2) نى ئىشلەپچىقىرىشقا ئىشلىتىلىدۇ. HfO2 يېرىم ئۆتكۈزگۈچ سانائىتىدىكى ترانسېنىتسور ۋە كوندېنساتور ئۈچۈن يۇقىرى k دىئېلېكترىك قوللىنىشتا كەڭ قوللىنىلىدۇ. HfCl4 خافنىي تۆت ئوكسىدنىڭ نېپىز پەردىسىنى ھاسىل قىلىش ئىقتىدارى سەۋەبىدىن ئىلغار ئېلېكترونلۇق ئۈسكۈنىلەرنى ياساشتا كەم بولسا بولمايدۇ.
ئورگانىك بىرىكتۈرۈش كاتالىزاتورى: خافنىي تېتراخلورىدنى ھەر خىل ئورگانىك بىرىكتۈرۈش رېئاكسىيەسىنىڭ كاتالىزاتورى قىلىپ ئىشلىتىشكە بولىدۇ ، بولۇپمۇ ئولېفىن پولىمېرلىشىش. ئۇنىڭ لېۋىس كىسلاتا خۇسۇسىيىتى ئاكتىپ ۋاسىتىچىلەرنى شەكىللەندۈرۈشكە ياردەم بېرىدۇ ، بۇ ئارقىلىق خىمىيىلىك رېئاكسىيەنىڭ ئۈنۈمىنى ئۆستۈرىدۇ. بۇ پروگرامما خىمىيىلىك سانائىتىدىكى پولىمېر ۋە باشقا ئورگانىك بىرىكمىلەرنى ئىشلەپچىقىرىشتا قىممەتلىك.
يادرو قوللىنىش: نېيتروننىڭ سۈمۈرۈلۈش ھالقىسى يۇقىرى بولغاچقا ، خافنىي تېتراخلورىد يادرو قوللىنىشتا ، بولۇپمۇ يادرو رېئاكتورلىرىنىڭ كونترول تاياقچىلىرىدا كەڭ قوللىنىلىدۇ. خافنىي نېيتروننى ئۈنۈملۈك سۈمۈرەلەيدۇ ، شۇڭا ئۇ پارچىلىنىش جەريانىنى تەڭشەشكە ماس كېلىدىغان ماتېرىيال بولۇپ ، يادرو ئېنېرگىيىسى ئىشلەپچىقىرىشنىڭ بىخەتەرلىكى ۋە ئۈنۈمىنى ئاشۇرۇشقا ياردەم بېرىدۇ.
نېپىز كىنو قويۇش: خافنىي تېتراخلورىد خىمىيىلىك ھور چۆكۈش (CVD) جەريانىدا ئىشلىتىلىدۇ ، خافنىينى ئاساس قىلغان ماتېرىياللارنىڭ نېپىز پەردىسىنى ھاسىل قىلىدۇ. بۇ فىلىملەر مىكرو ئېلېكترون ، ئوپتىكا ۋە قوغداش پەردىسى قاتارلىق كۆپ خىل قوللىنىشچان پروگراممىلاردا كەم بولسا بولمايدۇ. بىرلىككە كەلگەن ، ئەلا سۈپەتلىك كىنولارنى ساقلاش ئىقتىدارى HfCl4 نى ئىلغار ئىشلەپچىقىرىش جەريانىدا قىممەتلىك قىلىدۇ.